半光亮，高速高磷化学镍体系
ENOVA 949是专门设计用于生产半光亮，高磷化学镍镀层。
它是一个杰出的高速生产槽液，在宽广的槽液负载条件下可在挂镀或滚镀时产生0.5 mil/hr(12 microns /hr)的沉积速率。
该体系还有许多补充选择，比如PH值自动调解方案，含碳酸盐的产品带铵或不带铵。
该工艺产生的镀层具有良好的功能性，在延展性，内应力，可焊性和耐腐蚀性方面。适用于要求镀层孔隙最小化，特别是在腐蚀性环境中。
产品特性
- 半光亮
- 极佳的防腐蚀性
- 延展性良好，具有可焊性
- 镀层耐变色
- 槽液稳定性好
- 槽液寿命长
- 沉积速率一致
应用领域
- 电子行业
- 航天行业
- 军事工业
- 汽车行业
