高硬度光亮化学镍工艺

ENOVA EF 163工艺是一个化学镍磷电镀体系。它产生的合金镀层光亮均匀,含磷量为4-6%,整个槽液周期的平均沉积速率为0.8 mils/hr (20 μ/hr)。
镀层即使在无法进行热处理时,也具有很好的耐磨性。镀层的性能和成本高的镍-硼相似,要好于其它的镍-磷镀层。它表现出极低的内应力,改善了和大部分基体的结合力,同时对合金钢/高强度钢的疲劳强度影响不大。

产品特性

  • 不含铅和镉
  • 对杂质容忍度高
  • 特殊溶液稳定性
  • 降低了镀层变色的倾向
  • 绝佳的耐腐蚀性,应用范围广泛
  • 镀层镀态硬度或热处理后硬度都很高
  • 槽液使用寿命长
  • 电镀速率高
  • 在铁、黄铜、铜、铝基体上沉积效果良好
  • PH自动调节系统

应用领域

  • 电子行业
  • 航天行业
  • 军事工业
  • 汽车行业
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